Šta je tehnologija hladne plazme?

Hladna plazma tehnologija(takođe poznat kaoNeperterna plazmailiPlazma sa niskim temperaturama) je stanje materije gdje je plin djelomično ioniziran, generira jedinstvenu mješavinu reaktivne vrstebezznačajno zagrijavanje rasutog plina. Evo kvara:

1. Core Concept:

   • Plazma se često naziva "četvrtom stanju materije" (izvan čvrstog, tečnog, plina). Sastoji se od jona, besplatnih elektrona, neutralnih atoma / molekula i raznih uzbuđenih vrsta.

   • UTermalna / vruća plazma(kao u luku za zavarivanje ili munje), sve čestice (elektroni, joni, neutralnici) su u blizini termalne ravnoteže na vrlo visokim temperaturama (hiljade ° C).

   • Hladna plazmapostiže stanje ne ravnoteže. Elektroni su vrlo energizirani (10.000-100.000 + ° C ekvivalent), ali teže joni i neutralne molekule plina ostaju blizu sobne temperature (obično 25-60 ° C). Ovo je ključno.

2. Kako se generiše:

   • Napravljeno primjenom snažnog električnog polja (AC, DC, pulzno, mikrovalno, mikrovalno, RF) do plina (obično zraka, kisika, azota, argona, helijuma ili smjesa) na atmosferskom tlaku ili niskom pritisku.

   • Načini uobičajene generacije:

     • Dielektrična barijera Ispuštanje (DBD):Elektrode odvojene dielektričnom barijerom i plinskim jazom. Stvara filamentarne ili difuzne plazme.

     • Atmosferski pritisak PLASMA JET (APPJ):Gas teče kroz elektrode, generiranjem Pluma plazme usmjerene na metu.

     • Corona Ispuštanje:Visokonaponska elektroda sa oštrom tačkom stvara plazmu u blizini vrha.

     • Kapaciteta ili induktivno spojena RF plazma.

3. Ključne komponente i aktivne agente:

   • Energetski elektroni:Pogonske reakcije.

   • Reaktivne vrste kisika (ROS):Ozon (o₃), atomski kisik (o), singlet kisik (¹o₂), superoksid (o₂⁻), hidroksilni radikali (· oh).

   • Reaktivne vrste dušika (RNS):Nitrični oksid (ne), azot dioksid (NO₂), peroksinitrit (Onoo⁻).

   • UV fotonosi:Emitirano tokom opuštanja uzbuđenih vrsta.

   • Naplaćene čestice (ioni i elektroni):Može komunicirati sa površinama.

   • Električna polja.

4. Zašto je moćan i jedinstven:

   • Niska temperatura:Mogu tretirati materijale osjetljive na toplinu (plastiku, biološka tkiva, hrana) bez toplinske štete.

   • Reaktivna hemija:Koktel ROS, RNS, UV, I IONS može efikasno:

     • Ubijte mikroorganizme (bakterije, viruse, gljivice, spore).

     • Izmijenite površinske svojstva (poboljšajte jačnost, adheziju, ispis).

     • Degradirajte zagađivače i toksine.

     • Promovirati specifične hemijske reakcije.

     • Stimuliraju biološke procese (npr., Zarastanje rana, klijanje sjemena).

   • Suvi postupak:Često ne zahtijeva tekućine ili oštre hemikalije.

   • Brzo i efikasno:Reakcije se obično pojavljuju brzo.

   • Ekološki:Uglavnom proizvodi minimalan otpad u odnosu na hemijske metode; Generirani ozon / RNS razgrađuje prirodno.

5. Glavne aplikacije:

   • Sterilizacija i dekontaminacija:Medicinski instrumenti, ambalažni materijali, bolničke površine, površine hrane (voće, povrće, meso), pročišćavanje vode, pročišćavanje zraka.

   • Medicina (plazma medicina):Izlječenje i dezinfekcija rana (hronične rane, opekotine), terapija raka, stomatologija, tretman kože, koagulacija krvi.

   • Obrada materijala i modifikacija površine:Poboljšanje adhezije za boje / premaze / ljepila, poboljšanje tekstilne slabosti, površine za čišćenje, stvaranje funkcionalnih premaza.

   • Prehrambena industrija:Proširenje rok trajanja ubijanjem patogena i kvarove organizme na proizvode, mesu i pakiranju; Poboljšanje klijanja sjemena; Razgradnja mikotoksina.

   • Poljoprivreda:Tretman sjemena za poboljšani rast / otpor, kontrola biljne bolesti.

   • Sanacija okoline:Razbijanje isparljivih organskih spojeva (VOC) u zraku, ponižavajući organske zagađivače u vodi.

   • Elektronika:Jetkar, taloženje, čišćenje vafla i komponenti.

   • Energija:Reforma goriva, poboljšanje izgaranja.

U suštini:Hladna tehnologija plazme pojačava moćnu reaktivnost djelomično joniziranog plina na temperaturi blizine. Nudi svestranu, efikasnu i često ekološku alternativu tradicionalnim procesima zasnovanim na termičkim, hemijskim ili zračenjem na različitim poljima, posebno tamo gdje su osjetljivost na toplinu ili kemijski ostaci glavni zabrinutosti. To je brzo napredno područje istraživanja i industrijske primjene.